《光刻巨人：ASML崛起之路》 读书笔记

一、组织和人物关系：

【飞利浦Natla b】：飞利浦创新实验室

范希克：项目经理

鲍尔：机械工程师

【飞利浦科学与工业部】：负责产品，Natlab技术转移至该部门产品化

特罗斯特：部门经理

【飞利浦Elcoma】：生产线建设

电子机械化团队，负责生产线建设

【Cerco】：法国光学制造商，早期为飞利浦光刻机镜头供应商。

【Perkin-Elmer】：70年代美国芯片设备制造大公司，90%半导体市场份额。

二 技术相关

【晶圆如何定位】：将相位光栅用于位移测量系统。传感器使用光学偏振和相位对比技术，读取光栅，相位光栅在芯片制造过程中可以不被破坏。

【晶圆与掩模对准】：坐标系统一。首先让机器大致确认晶元的位置，做到粗控制，使得对准标记在激光光束范围内，然后以极高的精度对准晶元和掩模。突破点：通过成像的光学系统发送激光。相位光栅和镜后测光的结合。

【步进光刻机（stepper）】：晶圆台在曝光过程静止不动，曝光一次包含多个芯片，然后晶圆台移动再次曝光。

【投影扫描光刻机（scanner）】：使用光缝曝光，晶元和掩模同步移动。优点：相同尺寸的镜头可以多曝光电路，较小的视场更容易对焦，控制了镜头成本。

【污染在线去除】：I-镜头中蔡司使用了放气的胶水，挥发的碳化合物与氦气在紫外光下反应。台基电在氦气中加入氧气，通过紫外线分解为臭氧。

ASML直接解决物镜碳污染的方法：维护工程师将臭氧发生器连接到氦气导管保持24hour。

三 经营管理经验

【美国光刻设备公司GCA失败总结】：

缺乏统一标准的工程技术。每个开发人员孤立的开发自己的子系统，不顾及子系统的模块接口。开发人员缺乏对芯片制造工序的充分了解，无法确认哪些应用具有优先级。

【ASML成功经验】：催生一个产品规划团队，由ASML员工组成的精英团队，最好的专家在团队。考虑客户需求，管控技术是否可行。蔡司的工程师也参加季度会议。是团队精神和合作奠定基础。

ASML技术基石：超快超精密电动晶圆台、对准技术、蔡司的镜头。前两项都继承自飞利浦实验室。

【蔡司的转型】

1993年开始，由工匠制造转向自动化设备。采用40机器人和10干涉仪组合，IBF设备。

1996年蔡司只需要80人生产200个镜头（主要是i 线）。